Chemisch opdampproces
Het proces van chemisch opdampen is verdeeld in drie belangrijke fasen: het reactiegas diffundeert naar het oppervlak van het substraat, het reactiegas adsorbeert aan het oppervlak van het substraat, een chemische reactie vindt plaats op het oppervlak van het substraat om een vaste afzetting te vormen, en de bijproducten van de gasfase komen los van het substraatoppervlak. De meest voorkomende chemische dampafzettingsreacties zijn: thermische ontledingsreacties, chemische synthesereacties en chemische transportreacties. Gewoonlijk wordt TiC of TiN afgezet door TiCl4, H2, CH4 en andere gassen in de reactiekamer op 850-1100 1100 in te brengen en door een chemische reactie een coating op het oppervlak van het substraat te vormen.